随着经济的发展，科学技术的进步越来越明显，紫外线在半导体超纯水设备中能起到消毒灭菌的作用。很难想象这种技术也能在半导体超纯水设备中发挥作用。下面简要介绍紫外线技术在半导体超纯水设备中扮演什么角色?

　　1、灭菌

　　紫外线杀菌主要采用254纳米波长的紫外光。这种波长的紫外线，即使是小剂量的紫外线照射，也能破坏细胞生命的核心DNA，从而阻止细胞再生，丧失其再生能力，使细菌无害，从而达到杀菌效果。

　　2、臭氧消除

　　在工业生产中，臭氧经常被用来消毒和净化水。然而，由于臭氧具有很强的氧化能力，水中残留的臭氧如果不去除，可能会影响半导体超纯水设备的下一道工序。

　　3、降低总有机碳

　　在许多高科技和实验室设备中，有机物阻碍高纯水的生产。从水中去除有机物有很多方法。更常用的方法包括使用活性炭和反渗透。

　　4、余氯降解

　　在工业生产过程中，为了避免对产品产生不利影响，去除水中的残余氯往往是必要的预处理。消除余氯的基本方法是活性炭床和化学处理。

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